目前，各种新建装置尤其是高温、高压设备、大型设备和生产工艺要求比较高的设备和管线，再投产前都要进行化学清洗。不仅要清洗设备本体，而且要清洗那些与设备连接有可能把污物带入的其他管道和设备。近年来，我国陆续从国外引进了许多套大型化工装置，外商规定这些装置再开车前都要进行化学清洗。

 

新建设备进行化学清洗，不仅要进行除油脂处理，而且还要进行化学清洗。随着缓蚀技术的发展，金属设备在化学清洗过程中的腐蚀损失已降到了很小，最终的钝化处理将有助于减小设备运行中的腐蚀。另外，同酸洗时的腐蚀相比，轧制鳞片、氧化铁锈皮、泥沙、焊渣、防锈油及涂层等引起的设备运行事故更加具有危险性。由于化学清洗之后，得到了干净的金属表面，因而能更快的生产出合格的产品，工厂由此获得的经济效益将大大超过清洗的投资费用。

 

一、甲醇系统清洗

甲醇在整个精馏过程中，操作温度对甲醇的品质和收率起着非常重要的作用。每个塔的换热设备决定了各自处在适宜的操作温度下工作。由于换热器在加工、制造、保存、运输和安装过程中不可避免的在传热面上占有污物，特别是油污和灰尘，会大大降低设备的传热效率。因此，必须对换热器换热面进行化学清洗，使设备处在良好的状态下运行，才能保证分馏塔的温度控制在最佳范围内，从而确保产品的品质和收率。

    该系统的分离器、闪蒸罐、三组塔内、塔与塔之间的联接管线、换热器的壳程、回溜槽、储罐及外送管线等，在加工制造、保存、运输和安装过程中，其内表面上均沾有不少污物，这些污物如不及时清除会污染半成品合成品。轻者影响产品的色泽和浊度；重者，杂质中的某些组分有可能会同产品发生化学反应，生成其它物质。而且将该物质作为其他产品的原料，将会出现很多工艺上的问题。因此上述设备和管线一定要进行化学清洗，彻底清除金属表面的污物才能得到合格的产品

 

二、多晶硅装置化学清洗

 

多晶硅生产对环境及设备的清洁要求十分高。生产工艺过程比较复杂。尤其是塔器设备，对产品的质量影响极为重要。为了保证一次性开车投产顺利，保证产品质量，在设备的安装过程中，对设备及管线等重要设备的清洗工作十分严谨。在清洗过程中，使每个环节质量都达到标准。避免开车质量事故的发生。最大限度地降低调试费用，必须做好工艺设备和工艺管道安装前的清洗处理。针对不同的工艺要求、不同的设备材质以及不同的设备类型，清洗处理要求和达到的基本标准（要求达到无油、无水与无尘的三无要求）也不同。同时符合《脱脂工程施工及验收规范》和《工业设备化学清洗质量标准》并根据业主和成达公司的具体要求可分为一般清洗和洁净清洗。
    多晶硅设备的清洗主要工艺为酸洗、脱脂、钝化、干燥等，其中最关键是脱脂工艺和干燥技术。油脂和水对多晶硅的产品有巨大影响。因此在多晶硅设备的清洗中，以脱脂工艺和干燥工艺为要点。主要清洗还原炉、氢化炉、CDI设备、合成车间、还原氢化车间、精馏系统、中间罐、管道等主要设备。并且为了保证脱脂和干燥的质量，多晶硅设备清洗需要对单台设备进行单台清洗并验收后，再进行安装。